半導體先進製程加速朝2奈米、A14世代推進，EUV曝光層數及光罩使用需求同步增加，帶動相關設備商機升溫。家碩（6953）深耕光罩清洗、儲存、傳送及自動化設備，隨2奈米逐步放量，下半年設備出貨動能增溫，並提前布局High-NA EUV與先進封裝等新應用。

隨製程持續微縮，EUV光罩對潔淨度及自動化管理的要求也進一步提高，家碩已布局光罩交換、儲存及充氣設備。

除了先進邏輯製程外，DRAM業者擴大採用EUV，也帶來新的設備需求，相關專案持續推進，出貨動能可望延續至2027年；公司同時投入High-NA EUV及大尺寸光罩周邊設備研發。

家碩也將光罩自動化傳載設備導入CoWoS相關製程，進一步跨足先進封裝，海外市場則已在美國、日本及新加坡取得業務進展及訂單。為因應後續需求，公司正在南科興建約5,000坪新廠，預計2027年第一季取得使用執照、第二季加入營運。

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