台積電4名工程師涉及2奈米製程洩密案，最高法院考量陳力銘犯後配合調查，台積電也願意接受他的道歉，30日依違反《國家安全法》將他判刑10年，協助偷拍機密的工程師陳韋傑未取得台積電諒解，判刑6年，全案確定。2人羈押中，將直接發監執行。本案是《國安法》修法增訂「國家核心關鍵技術營業祕密保護」的相關條款後，首例適用並判決確定的指標性案件。
這起引發科技界與法界高度關注的洩密案，也牽涉台積電及日本知名半導體設備商、東京威力科創公司的技術發展與競爭，案件起因台積電資安系統察覺異常，展開內部調查，民國114年7月向檢方報案，檢方發動搜索後偵結，將陳力銘等人依違反《國安法》等罪起訴。
今年4月智慧財產及商業法院將同案被告戈一平、吳秉駿，各判刑2年、3年，因未上訴已確定。法人被告東京威力科創公司被判罰金1.5億元，緩刑3年確定，須在1年內向台積電賠付1億元，並向公庫支付5000萬元。
同案東京威力主管盧怡尹刪除陳翻拍的台積電營業祕密圖檔，湮滅證據，但在發現刪除的電磁紀錄回復後，主動通報公司，智商法院將她判刑10月，緩刑3年，支付公庫100萬元，她提上訴最高法院審理中，是本案唯一官司尚未確定的被告。
判決指出，曾任職台積電12廠良率部門的工程師陳力銘，因家庭經濟壓力沉重，轉赴東京威力科創任職後，為協助新東家爭取訂單與技術突破，找上台積電工程師吳秉駿、戈一平協助，利用遠端連線方式進入內部資料庫，偷拍12張2奈米製程的機密照片傳送給陳力銘，供其整理後寫入東京威力科創內部文件協助量產。陳力銘另找前台積電工程師陳韋傑，以手機偷拍數十張2奈米製程原料、設備與技術資料。身為始作俑者的陳力銘，與另3人共犯兩個一般侵害營業祕密之意圖域外使用罪，及三個國安營業祕密之意圖域外使用罪。