美國對中國半導體產業的防堵政策恐將進一步擴大。根據荷蘭媒體《NU.nl》報導,美國國會目前正推進名為《MATCH Act》的法案,擬透過具強制力的法律機制,要求盟國全面跟進美國針對敏感科技的出口管制政策。若該法案順利通過,荷蘭半導體設備大廠ASML(艾司摩爾)不僅將被禁止向中國客戶銷售較舊款的DUV(深紫外光)曝光機,甚至連已交付設備的後續維修與零組件保養服務都可能面臨全面封殺;若荷蘭政府拒絕配合,美方亦可祭出相應制裁。
此前在美方強力施壓下,荷蘭已限制ASML向中國出口頂尖EUV(極紫外光)機台及部分先進DUV型號。然而,美方觀察到中國正透過先進蝕刻技術搭配現有DUV設備,以多重曝光方式製造接近先進製程水準的晶片,用於AI與超級電腦運算。為抑制中國在高階運算與軍事科技的發展,《MATCH Act》旨在堵住此項技術路徑,並規劃將相關管制納入具備高度通過率的年度國防預算案中。
報導指出,相較於ASML的DUV設備面臨嚴格禁售與維修封鎖,美國本土部分蝕刻設備製造商在法案修改後仍獲准向中國出貨。面對可能遭受的營運衝擊,荷蘭政府與產業代表雖積極於華府進行遊說,但美國共和黨和民主黨對華科技防堵具高度共識的氛圍下,阻擋難度相對偏高。由於ASML自身設備生產高度依賴美國供應鏈,一旦法案正式立法落實,該公司在中國市場的設備銷售與既有裝機維護業務將迎來空前的監管考驗。
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