受惠台積電（2330）、艾司摩爾（ASML）將共同推動High NA EUV技術及12吋光罩，市場看好隨著光罩布局擴大，尺寸、曝光層數增加下，原本就是台積電光罩供應商的光罩（2388）有望同步受惠，行情推升週線上揚23.7%。
台積電與ASML宣布，將在未來導入12吋光罩，讓更大面積的晶片也能生產、進一步提高產能。台積電也指出，2030年起將在先進製程導入High-NA EUV技術，並計畫在2031年前建立12吋光罩試產線，目標讓採用12吋光罩的High-NA EUV微影系統在2033年具備支援先進製程生產的條件。
光罩是台灣最大的「獨立專業光罩廠」，業務過去多集中在成熟製程（90奈米至65/40/28奈米等）。光罩上週五（11日）終場收47.75元，累積連3漲26.49%，當日成交量6.6萬張，週線（9/7~9/11）大漲23.7%，週成交量8.64萬張。
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